انباشت بخار شیمیایی افزایش‌یافته با پلاسمای کم‌انرژی: تفاوت میان نسخه‌ها
محتوای حذف‌شده محتوای افزوده‌شده
جز ربات: حذف پیوندهای میان‌ویکی که در ویکی‌داده موجود است |
ImanFakhri (بحث | مشارکت‌ها) اصلاح |
||
خط ۱:
'''انباشت بخار شیمیایی افزایش یافته با پلاسمای کم‌انرژی''' ({{lang-en|Low-energy plasma-enhanced chemical vapor deposition}}) CVD) از پلاسمای کم‌چگالی و کم‌انرژی برای به دست آوردن رسوب اپیتاکسیال مواد نیمه رسانا با سرعت بالا و دماهای پایین استفاده می‌شود.
== جستارهای وابسته ==
* [[انباشت بخار شیمیایی]]
| |||