پرونده:Commercial Nitriding.jpg
تفکیک‌پذیری بالاتری در دسترس نیست.
Commercial_Nitriding.jpg (۳۰۰ × ۲۳۶ پیکسل، اندازهٔ پرونده: ۱۹ کیلوبایت، نوع MIME پرونده: image/jpeg)
 | این پرونده در ویکی‌انبار موجود است. محتویات صفحهٔ توصیف آن در زیر نمایش داده می‌شود. |
خلاصه
| توضیح | The micro frames and properties of commercial plasma nitriding are strongly affected by bias volts. At different bias volt and by high freq and low volt, for pure iron commercial nitriding processes the layers show best wear and corrosion resistance. |
| منبع | |
| پدیدآور |
اجازه‌نامه
من، صاحب حقوق قانونی این اثر، به این وسیله این اثر را تحث اجازه‌نامهٔ ذیل منتشر می‌کنم:
این پرونده تحت پروانهٔ Creative Commons Attribution-Share Alike 4.0 International منتشر شده است.
- شما اجازه دارید:
- برای به اشتراک گذاشتن – برای کپی، توزیع و انتقال اثر
- تلفیق کردن – برای انطباق اثر
- تحت شرایط زیر:
- انتساب – شما باید اعتبار مربوطه را به دست آورید، پیوندی به مجوز ارائه دهید و نشان دهید که آیا تغییرات ایجاد شده‌اند یا خیر. شما ممکن است این کار را به هر روش منطقی انجام دهید، اما نه به هر شیوه‌ای که پیشنهاد می‌کند که مجوزدهنده از شما یا استفاده‌تان حمایت کند.
- انتشار مشابه – اگر این اثر را تلفیق یا تبدیل می‌کنید، یا بر پایه آن اثری دیگر خلق می‌کنید، می‌‌بایست مشارکت‌های خود را تحت مجوز یکسان یا مشابه با ا اصل آن توزیع کنید.
تاریخچهٔ پرونده
روی تاریخ/زمان‌ها کلیک کنید تا نسخهٔ مربوط به آن هنگام را ببینید.
| تاریخ/زمان | بندانگشتی | ابعاد | کاربر | توضیح | |
|---|---|---|---|---|---|
| کنونی | ۹ فوریهٔ ۲۰۱۹، ساعت ۱۱:۱۴ | | ۳۰۰ در ۲۳۶ (۱۹ کیلوبایت) | Ansion005 | User created page with UploadWizard |
کاربرد پرونده
صفحهٔ زیر از این تصویر استفاده می‌کند:
