سیلیسیم: تفاوت میان نسخه‌ها

عمده سیلیسیم تولید شده به شکل [[آلیاژ|آلیاژی]] فِروسیلیکنی باقی می‌ماند، و فقط نزدیک به ۲۰٪ تا درجهٔ [[متالورژی|متالورژیکی]] خالص سازی می‌شود (مجموعا ۱٫۳ تا ۱٫۵ میلیون تن در سال). تخمین زده می‌شود که ۱۵٪ از تولید سیلیسیم متالورژیکی، تا رسیدن به درجهٔ نیمه رساناها مجدداً خالص سازی می‌شود.<ref>{{یادکرد وب|نویسنده=Corathers, Lisa A|کد زبان=|تاریخ=|وبگاه=|نشانی=minerals.usgs.gov/minerals/pubs/commodity/silicon/myb1-2009-simet.pdf|عنوان=2009 Minerals Yearbook}}</ref> به این درجه خلوص در اصطلاح "«خلوص نهنُه-۹"» یا "%۹۹٫۹۹۹۹۹۹۹"۹۹٫۹۹۹۹۹۹۹٪ می‌گویند.<ref>"Semi" SemiSource 2006: A supplement to Semiconductor International. December 2005. Reference Section: ''How to Make a Chip.'' Adapted from Design News. Reed Electronics Group.</ref> ماده ای [[سیلیکون بلورین|تک-بلورین]] و تقریباً بدون هیچ نقصی.<ref>SemiSource 2006: A supplement to Semiconductor International. December 2005. Reference Section: ''How to Make a Chip.'' Adapted from Design News. Reed Electronics Group.</ref>

در [[مدار مجتمع|مدارهای مجتمع]] متداول، [[ویفر (الکترونیک)|ویفری]] از جنس سیلیکن مونو-کریستالی به عنوان پایه مکانیکی مدارها استفاده می‌شود، که این پایه‌ها به کمک آلایش ساخته شده و با لایه‌های نازکی از [[اکسید سیلیسیم|اکسید سیلیکن]] از هم جدا می‌شوند.