پرونده:Black Silicon - ASE single.jpg
تفکیک‌پذیری بالاتری در دسترس نیست.
Black_Silicon_-_ASE_single.jpg (۶۴۰ × ۴۸۷ پیکسل، اندازهٔ پرونده: ۱۵ کیلوبایت، نوع MIME پرونده: image/jpeg)
 | این پرونده در ویکی‌انبار موجود است. محتویات صفحهٔ توصیف آن در زیر نمایش داده می‌شود. |
خلاصه
| توضیح |
English: Scanning electron microscope (SEM) picture of silicon spikes (as in black silicon) after a deep reactive ion etch process of silicon
Deutsch: Rasterelektronenmikroskopaufnahme (REM) einer einzelnen "Silicium-Nadel", wie sie beim Schwarzen Silicium vorkommen. Herstellung durch Reaktives Ionentiefenätzen (DRIE) von Silicium (ASE-Prozess) |
| تاریخ | |
| منبع | Christoph Kubasch (2005) |
| پدیدآور | Christoph Kubasch (2005) |
| دیگر نسخه‌ها |
 |
اجازه‌نامه
من، صاحب حقوق قانونی این اثر، به این وسیله این اثر را تحث اجازه‌نامه‌های ذیل منتشر می‌کنم:
|
اجازهٔ کپی، پخش و/یا تغییر این سند تحت شرایط مجوز مستندات آزاد گنو، نسخهٔ ۱٫۲ یا هر نسخهٔ بعدتری که توسط بنیاد نرم‌افزار آزاد منتشر شده؛ بدون بخش‌های ناوردا (نامتغیر)، متون روی جلد، و متون پشت جلد، اعطا می‌شود. یک کپی از مجوز در بخشی تحت عنوان مجوز مستندات آزاد گنو ضمیمه شده است. |
این پرونده با اجازه‌نامهٔ کریتیو کامانز Attribution-Share Alike 3.0 سازگار نشده، 2.5 عمومی، 2.0 عمومی و 1.0 عمومی منتشر شده است.
- شما اجازه دارید:
- برای به اشتراک گذاشتن – برای کپی، توزیع و انتقال اثر
- تلفیق کردن – برای انطباق اثر
- تحت شرایط زیر:
- انتساب – شما باید اعتبار مربوطه را به دست آورید، پیوندی به مجوز ارائه دهید و نشان دهید که آیا تغییرات ایجاد شده‌اند یا خیر. شما ممکن است این کار را به هر روش منطقی انجام دهید، اما نه به هر شیوه‌ای که پیشنهاد می‌کند که مجوزدهنده از شما یا استفاده‌تان حمایت کند.
- انتشار مشابه – اگر این اثر را تلفیق یا تبدیل می‌کنید، یا بر پایه آن اثری دیگر خلق می‌کنید، می‌‌بایست مشارکت‌های خود را تحت مجوز یکسان یا مشابه با ا اصل آن توزیع کنید.
می‌توانید مجوز دلخواه خود را برگزینید.
تاریخچهٔ پرونده
روی تاریخ/زمان‌ها کلیک کنید تا نسخهٔ مربوط به آن هنگام را ببینید.
| تاریخ/زمان | بندانگشتی | ابعاد | کاربر | توضیح | |
|---|---|---|---|---|---|
| کنونی | ۱۷ آوریل ۲۰۰۹، ساعت ۱۴:۰۴ | | ۶۴۰ در ۴۸۷ (۱۵ کیلوبایت) | Cepheiden | {{Information |Description={{en|1=Scanning electron microscope (SEM) silicon spikes (as in black silicon) after a deep reactive ion etch process of silicon }} {{de|1=Rasterelektronenmikroskopaufnahme (REM) einer einzelnen "Silicium-Nadel", wie sie beim Sc |
کاربرد پرونده
صفحهٔ زیر از این تصویر استفاده می‌کند:
کاربرد سراسری پرونده
ویکی‌های دیگر زیر از این پرونده استفاده می‌کنند:
- کاربرد در de.wikipedia.org
- کاربرد در en.wikipedia.org
