پرونده:Cudeposition.gif

Cudeposition.gif(۳۲۰ × ۳۸۰ پیکسل، اندازهٔ پرونده: ۶۶۹ کیلوبایت، نوع MIME پرونده: image/gif، چرخش‌دار، ۱۸۷ قاب، ۱۹ ثانیه)

خلاصه

توضیح

Molecular dynamics computer simulation of the deposition of a single copper atom with

a kinetic energy of 1 eV on a copper surface. Technical details: cross section of two atom layers in the middle of a larger (10x10x10 unit cells) 3D simulation cell. Simulation made with Sabochick-Lam embedded-atom method potential, Berendsen temperature control used only at the outer boundaries to scale temperature down to 0 K. Initial temperature 0 K (cell prerelaxed to allow for surface relaxation inwards). This kind of processes occur in reality during physical vapour deposition.
تاریخ
منبع اثر شخصی
پدیدآور Knordlun

اجازه‌نامه

Public domain این اثر توسط پدیدآور آن، I, Knordlun، به مالکیت عمومی درآمده است. این مربوط به تمام جهان است.
در برخی از کشورها ممکن است به صورت قانونی این امکان‌پذیر نباشد؛ اگر چنین است:
I, Knordlun به هر کسی اجازهٔ استفاده از این اثر برای هر مقصودی، بدون هیچ‌گونه شرایطی، را می‌دهد تا وقتی که این شرایط توسط قانون مستلزم نشده باشند.

عنوان

شرحی یک‌خطی از محتوای این فایل اضافه کنید

آیتم‌هایی که در این پرونده نمایش داده شده‌اند

توصیف‌ها

این خصوصیت مقداری دارد اما نامشخص است.

source of file انگلیسی

checksum انگلیسی

b119ad0d4852472aed1fb37c60c3b4c9c64b6147

۶۸۵٬۴۱۱ بایت

۱۸٫۶۹۹۹۹۹۹۹۹۹۹۹۹۹۶ ثانیه

۳۸۰ پیکسل

۳۲۰ پیکسل

تاریخچهٔ پرونده

روی تاریخ/زمان‌ها کلیک کنید تا نسخهٔ مربوط به آن هنگام را ببینید.

تاریخ/زمانبندانگشتیابعادکاربرتوضیح
کنونی‏۳۰ ژوئیهٔ ۲۰۰۷، ساعت ۱۲:۳۹تصویر بندانگشتی از نسخهٔ مورخ ‏۳۰ ژوئیهٔ ۲۰۰۷، ساعت ۱۲:۳۹۳۲۰ در ۳۸۰ (۶۶۹ کیلوبایت)Knordlun{{Information |Description=Molecular dynamics computer simulation of the deposition of a single copper atom on a copper surface. Technical details: cross section of two atom layers in the middle of a larger 3D simulation cell. Simulation made with Sabochi

صفحهٔ زیر از این تصویر استفاده می‌کند:

کاربرد سراسری پرونده

ویکی‌های دیگر زیر از این پرونده استفاده می‌کنند: