آی‌سی: تفاوت میان نسخه‌ها
محتوای حذف‌شده محتوای افزوده‌شده
silicon wafer به معنای "ویفر سیلیکونی" است و نه ویفر |
در اینجا دقیقا تعریف ویفر سیلیکنی می اید و نه ویفر. ویفر می تواند از جنس ژرمانیم و ... هم باشد که در این صورت می شود ویفر ژرمانیمی |
||
خط ۱۵:
== طرز ساخت ریز تراشه‌ها ==
ریز تراشه‌ها را با تعبیهٔ [[مدارهای الکترونیک|مدارهای الکترونیکی]] در لایه‌ای نازک از [[سیلیسیم|سیلیکن]] خالص به اسم [[ویفر (الکترونیک)|ویفر
{{به انگلیسی| [[:en:Wafer (electronics)|Silicon Wafer]]}}، به صورت یک فرایند پیچیده و به صورت [[لایه لایه]] می‌سازند. به فرایند ساخت ریز تراشه: [[:en:Semiconductor device fabrication|تکنولوژی ساخت مدارات نیمه هادی]] می‌گویند. تمامی مراحل ساخت ریز تراشه در اتاق‌هایی موسوم به اتاق تمیز {{به انگلیسی| [[:en:Cleanroom|Cleanroom]]}} انجام می‌شود که از نظر سطح ناخالصی و طیف‌های نوری موجود در اتاق کاملاً تحت کنترل است.<ref>https://en.wikipedia.org/wiki/Cleanroom</ref>
| |||